ROHMs neue branchenführende* N-Kanal-MOSFETs mit niedrigem Einschaltwiderstand: Hocheffizienter Betrieb in einer Vielzahl von Anwendungen
40 V bis 150 V Durchbruchspannung: ideal für Motorantriebe und industrielle Stromversorgungen
Willich-Münchheide, 31. Mai 2023 – ROHM hat neue N-Kanal-MOSFETs der Baureihen RS6xxxxBx/RH6xxxxBx in 13 Varianten mit Durchbruchsspannungen von 40 V, 60 V, 80 V, 100 V und 150 V entwickelt. Die Bauelemente eignen sich ideal für Anwendungen, die mit 24 V/36 V/48 V-Stromversorgungen betrieben werden. Dies sind zum Beispiel Basisstationen, Server sowie Motoren für Industrieanlagen und Konsumgüter.
(Bild 1)

In den letzten Jahren ist der Stromverbrauch weltweit gestiegen. Als Folge davon mussten industrielle Geräte wie Server, Basisstationen und verschiedene Motoren effizienter werden. Für einige dieser Anwendungen, bei denen Mittelspannungs-MOSFETs in einer Vielzahl von Schaltungen eingesetzt werden, fordern die Hersteller eine weitere Reduzierung der Leistungsverluste. Typische MOSFETs sind jedoch durch zwei Hauptparameter gekennzeichnet, die zu Leistungsverlusten führen: Der Einschaltwiderstand (RDS(on)), der umgekehrt proportional zur Chipgröße ist, und die Gate-Drain-Ladung (Qgd), die proportional zur Chipgröße ansteigt. Beide in Einklang zu bringen, ist eine Herausforderung. ROHM hat durch die Verwendung von Kupfer-Clip-Verbindungen und die Optimierung der Gate-Struktur einen guten Kompromiss zwischen diesen beiden Parametern gefunden.

Die neuen MOSFETs zeichnen sich aus durch einen branchenführenden RDS(on) von 2,1 mΩ – ca. 50 % weniger als bei herkömmlichen Produkten. Erreicht wird dies durch eine Erhöhung der Bauelemente-Performance und die Verwendung eines HSOP8/HSMT8-Gehäuses mit niederohmigen Kupfer-Clip-Anschlüssen. Die Verbesserung der Element-Gate-Struktur reduziert die Qgd um ca. 40 % gegenüber konventionellen Produkten (Vergleich typischer Werte für RDS(on) und Qgd für Produkte mit 60-V-HSOP8-Gehäuse). Diese Maßnahmen verringern sowohl die Schalt- als auch die Leitungsverluste, was die Effizienz der Anwendung erheblich erhöht. Vergleicht man beispielsweise den Wirkungsgrad einer Evaluierungsplatine für Stromversorgungen in Industrieanlagen. So erreichen die neuen Produkte von ROHM einen branchenführenden Wirkungsgrad von ca. 95 % (Spitze) im Ausgangsstrombereich bei Dauerbetrieb.

ROHM wird auch in Zukunft MOSFETs mit noch niedrigerem Einschaltwiderstand entwickeln. Diese werden den Stromverbrauch in einer Vielzahl von Anwendungen senken und dazu beitragen, gesellschaftliche Herausforderungen wie den Umweltschutz durch Energieeinsparung zu bewältigen.
(Bild 2 + 3)

Produktpalette
(Bild 4)

Anwendungsbeispiele
  • Stromversorgungen für Server und Basisstationen für Kommunikationsanwendungen
  • Motoren für Industrieanlagen und Konsumgüter
Die Produkte eignen sich auch für eine Vielzahl von Stromversorgungsschaltungen und motorbetriebenen Anwendungen.

*ROHM-Studie vom 31. Mai 2023

Über ROHM Semiconductor
ROHM Semiconductor, ein weltweit aktives Unternehmen, das per 31. März 2023 einen Umsatz von 507,9 Milliarden Yen erwirtschaftete und über 23.700 Mitarbeiter beschäftigt, entwickelt und produziert eine umfangreiche Produktpalette, die von SiC-Dioden und MOSFETs, analogen ICs wie Gate-Treibern und Power-Management-ICs über Leistungstransistoren und Dioden bis hin zu passiven Bauelementen reicht. Die Produktion erfolgt in modernsten Fertigungsstätten in Japan, Deutschland, Korea, Malaysia, Thailand, den Philippinen und China. ROHM Semiconductor Europe mit seiner Zentrale nahe Düsseldorf betreut die EMEA-Region (Europe, Middle East, Africa).
Für weitere Informationen besuchen Sie bitte www.rohm.de
 
 
 
» ROHM Semiconductor
» Presse Informationen
» Presse-Information
Datum: 31.05.2023 14:00
Nummer: PR17/23DE
» Bildmaterial
Bitte klicken Sie auf die Bildvorschau, um die hochauflösende Version zu öffnen. » Weitere Hilfe zu Downloads

 Download der hochauflösenden Version...
ROHMs neue branchenführende N-Kanal-MOSFETs mit niedrigem Einschaltwiderstand: Hocheffizienter Betrieb in einer Vielzahl von Anwendungen

 Download der hochauflösenden Version...
Bild 1

 Download der hochauflösenden Version...
Bild 2

 Download der hochauflösenden Version...
Bild 3

 Download der hochauflösenden Version...
Bild 4
» Kontakt
ROHM Semiconductor GmbH
Public Relations
Katrin Haasis-Schmidt  
Karl-Arnold-Str. 15
D-47877 Willich-Münchheide
Deutschland
Tel: +49 2154 921 0
katrin.haasis-schmidt@de.rohmeurope.com
» Kontakt Agentur
Mexperts AG
Wildmoos 7
D-82266 Inning am Ammersee
Deutschland

Kontakt: Peter Gramenz
Tel.: +49 8143 59744 12
peter.gramenz@mexperts.de
» Weitere Meldungen
10.12.2024 14:00
ROHM und TSMC: Strategische Zusammenarbeit im Bereich Galliumnitrid-Technologie für die Automobilindustrie

26.11.2024 09:30
Valeo & ROHM Semiconductor entwickeln gemeinsam die nächste Generation der Leistungselektronik

12.11.2024 14:00
ROHMs neue SiC-Schottky-Barrier-Dioden für xEV-Hochspannungssysteme: Optimiertes Gehäusedesign verbessert Isolationswiderstand

07.11.2024 14:00
ROHMs neue 1200-V-IGBTs erreichen branchenführend* geringe Verluste mit hoher Kurzschlusstoleranz

10.10.2024 10:00
ROHM auf der electronica 2024: Empowering Growth, Inspiring Innovation