Mentor Graphics kündigt nächste OPC-Tool-Generation an

Calibre nmOPC bietet höhere Genauigkeit und Leistungsfähigkeit in Verbindung mit drastisch reduzierten Kosten für RET-Flows

WILSONVILLE, Oregon/USA, 05. Dezember 2006 - Mentor Graphics Corporation kündigt mit Calibre® nmOPC ein OPC (Optical Proximity Correction)-Tool der dritten Generation an, welches das Portfolio der Calibre-RET (Resolution Enhancement Technology) -Produkte für Sub-65-Nanometer(nm)-Prozesstechnologien erweitert. Calibre-nmOPC und das dazugehörende OPC-Verifikationswerkzeug, Calibre OPCverify™ (dieses wurde Anfang 2006 vorgestellt), leiten eine neue Ära computergestützter Lithographie ein, da sie überragende Simulationsgenauigkeit mit der höchsten Performance und den niedrigsten Betriebskosten der Industrie verbinden. Photolithographie-Prozesse mit niedrigem k1-Faktor vergrößern die Komplexität von RET-Anwendungen in Nanometer-Designs. Bei 45 nm wird durch komplexere Modelle, Korrekturen im Prozessfenster und durch die Verifikationsanforderungen der Rechenaufwand erheblich erhöht. Sowohl die Herausforderungen in der Lithographie als auch die steigende Rechenkomplexität in Verbindung mit dem 45-nm-Prozess erfordern computergestützte Lithographie-Werkzeuge mit erweiterten Fähigkeiten. Calibre nmOPC beantwortet diese Herausforderungen mit mehreren Innovationen. Dazu zählen Simulation der Bestückungsdichte, für OPC optimierte Prozessfenster, eine hybride Rechenplattform mit Coprozessor-Beschleunigung (mittels Cell-BE-Prozessor), eine neue kompakte, stabile Prozessmodellierungsfähigkeit und Design-optimierte Korrekturalgorithmen. Das Calibre-nmOPC-Tool bietet die höchste Genauigkeit, Geschwindigkeit und niedrigsten Betriebskosten seiner Klasse. Wie alle Produkte der Calibre-Familie laufen Calibre nmOPC und Calibre OPCverify auf einer voll integrierten hierarchisch aufgebauten Engine, die einen durchgängigen Design-Masken-Flow mit einer einheitlichen Befehlssprache ermöglicht. Calibre nmOPC bietet auch viele praxisgerechte Funktionen für die Produktion, zum Beispiel OASIS-Formatierung zur Verkleinerung der Ausgabedateien; neue, im Vergleich zu OPC-Tools rationellere hierarchische Verarbeitung zur Verbesserung der Laufzeit und Dateigröße, eine Anzeige des Entwicklungsstadiums und dynamische CPU-Zuweisung, um die Durchlaufzeiten in der Produktionsumgebung zu managen. Simulation von Dichte und Prozessfenster Modifikationen in einem Fertigungsprozess können sich erheblich auf die Ausbeute auswirken. Dies ist insbesondere im Lithographie-Prozess der Fall, wo Veränderungen der Dosis oder beim Fokus die Abbildungstreue beeinflussen. Um das Risiko eines Fehlers im Silizium zu reduzieren und eine akzeptable Ausbeute bei den schwierigen Bedingungen mit niedrigem k1-Faktor zu erzielen, nutzt Calibre nmOPC sowohl Simulationsmodelle, die eine hundertprozentige Simulation des Masken-Layers gestatten, als auch Optimierungsalgorithmen zur Korrektur des Prozess-Fensters, die den Erfolg der Siliziumstrukturierung gewährleisten. Um designkritische Funktionsmerkmale zu strukturieren und das Designziel sowie die parametrische Ausbeute zu erhalten, unterstützt Calibre nmOPC auch die Multi-Layer-Eingabe in den Korrekturalgorithmus. Hybride Coprozessor-Rechenplattform Mentor adressiert auch die steigenden Kosten, die mit dem zunehmenden Bedarf an mehr CPUs verbunden sind, durch die Einführung einer einzigartigen Coprozessor-Architektur. Die RAS (Remote Acceleration Simulation) -Architektur bietet die Option, einen Coprozessor-Beschleunigungs-Cluster über eine Ethernet-Verbindung an bestehende Computer-Cluster anzuschließen. Mentor und Mercury Computer Systems, ein führender Anbieter von hoch leistungsfähigen Computer-System-Designs, sind eine Partnerschaft eingegangen, um standardmäßige Coprozessor-Beschleunigungs-Cluster anbieten zu können, die auf der äußerst leistungsfähigen Cell Broadband Engine™ (CBE) basieren. Der Cell-Prozessor-Cluster beschleunigt die Bildverarbeitungskomponenten von Calibre nmOPC und ermöglicht eine Reduzierung der Laufzeit um den Faktor 4 bis 10, während sich die allgemeinen Computing-Anforderungen für einen 65-nm-Knoten nicht oder nur gering erhöhen. Die innovative Anwendung des Cell-Prozessors für die computergestützte Lithographie setzt einen neuen Maßstab bei den Betriebskosten gemäß den Anforderungen der Kunden nach Kostenreduzierung. Laut Anthony Yu, Vice President, Semiconductor Industry Sales, Technology Collaboration Solutions, IBM Corporation, ist die Cell-BE aufgrund ihrer hohen Leistungsfähigkeit bei unterschiedlichsten Image-basierten Berechnungen die ideale Lösung für Halbleiteranwendungen wie Mentors neuer Dense-Imaging-Softwaretechnologie. Der Einsatz der Cell-BE durch EDA-Unternehmen wie Mentor Graphics macht Cell-BE zur ersten Wahl für die Realisierung fortschrittlicher Halbleiterprozesse. Kompakte Modellierung Mit der Vorstellung der vierten Generation kompakter Prozessmodelle führt Mentor seine bewährte Praxis fort, Industrie führende Modellierungsgenauigkeit und -technologie anzubieten. Das neue CM1-Modell bietet höhere Genauigkeit als sein Vorgänger, erfüllt die Kundenanforderungen für die 45- und 32-nm-Prozessgenerationen und nutzt die Vorteile der Dichtesimulation von nmOPC sowie der Coprozessor-Beschleunigung. Der automatisierte Kalibrierungsprozess für CM1-Modelle liefert Modelle mit ausgezeichneter Stabilität und erleichtert dem OPC-Ingenieur die Wahl der Optimierung. “Mit Calibre nmOPC stellen wir mehrere neue Technologien vor, die es uns ermöglichen, unsere führende Position im computergestützten Lithographie-Markt zu festigen“, sagte Joe Sawicki, Vice-President und General-Manager der Design to Silicon Division von Mentor Graphics. „Wir haben unser bewährtes Geschäftsmodell beibehalten und unsere Kernkompetenz bei Softwareinnovationen untermauert, während wir gleichzeitig eine Partnerschaft mit Mercury eingegangen sind, um hoch leistungsfähige Computer-Hardware zur Verfügung zu stellen.“ Verfügbarkeit Calibre nmOPC ist ab sofort verfügbar. Weitere Informationen gibt es unter http://www.mentor.com Cell Broadband Engine Cell Broadband Engine ist ein Warenzeichen der Sony Computer Entertainment, Inc. Cell BE wurde gemeinsam von Sony, Toshiba und IBM entwickelt. Weitere Informationen über die Cell-Broadband-Engine-Technologie gibt es unter: http://www-128.ibm.com/developerworks/power/cell/index.html Mentor Graphics und Calibre sind eingetragene Warenzeichen von Mentor Graphics und Calibre OPCverify ist ein Warenzeichen von Mentor Graphics Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.

Über Mentor Graphics Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von über 700 Mio. US-Dollar und beschäftigt weltweit ca. 4.000 Mitarbeiter. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777; Die Adresse der Niederlassung im Silicon Valley lautet: 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Kalifornien 95131-2314. Weitere Informationen unter: http://www.mentor.com