Infineon und Chartered dokumentieren Vorteile von Mentors Calibre LFD

Wilsonville, Oregon, USA, 06. Juni 2007 – Mentor Graphics gab die erfolgreiche Validierung  von Calibre® LFD (Litho-Friendly Design) in Silizium-Schaltungen mit 65-nm-Technologie bekannt. Die positiven Ergebnisse, die durch die Implementierung von Mentor Graphics Calibre LFD in den Verifikations-Flow für den Lithographieprozess erreicht werden können, dokumentiert eine gemeinsame Veröffentlichung von Infineon Technologies und Chartered Semiconductor Manufacturing. Calibre LFD erlaubt für ein DRC (Design Rule Check) geprüftes Design die Analyse auf seine Produktionsfähigkeit, indem Variationen des Lithographieprozesses praxisnah simuliert werden können. Schon früh im Designzyklus eingesetzt, können so kritische Punkte bezüglich der Lithographie identifiziert werden, die zu einer größeren Fehlerhäufigkeit führen können. Chartered arbeitet mit Mentor seit März 2006 an der Bereitstellung eines LFD™ Produktions-Kit zusammen. Der Beitrag mit dem Titel  „Hardware Verification of Litho-Friendly Design (LFD) Methodologies [6521-20]” wurde im Februar  2007 auf dem SPIE Advanced Lithography Symposium von Infineon und Chartered (Reinhard März, Kai Peter, Sonja Gröndahl und Klaus Keiner von Infineon Technologies sowie Byoung Il Choi, Shyue Fong Quek, Mei Chun Yeo, Nan Shu Chen und Soo Muay Goh von Chartered) präsentiert. Die präsentierte Arbeit basiert auf einer Reihe von Experimenten, mit dem Ziel den Nutzen der Implementierung einer LFB-basierten physikalischen Verifikation zusätzlich zum traditionellen regelbasierten Design bei Geometrien von 65 nm und darunter zu nachzuweisen. Die Versuche umfassten die Lithographieüberprüfung hinsichtlich minimaler Breite (Pinching), minimalem Abstand (Bridging), minimaler Flächenüberlappung und dem „Process Variability Index“. Physikalische Messungen auf realen Test-Wafern mit kontrollierten Parameter-Variationen korrelierten dabei sehr genau mit den LFD-Simulationen. Die Experimente fanden auf Basis der Standardzellen-Bibliothek von Infineon statt, die in der Fab7 von Chartered gefertigt wird. „Es war für uns wichtig, die Bedeutung einer Modell-basierten Lithographie-Simulation durch den Vergleich der Simulationsergebnisse mit realen Messungen an 65-nm-Testchips zu bestätigen“, sagte Walter Ng, Senior Director of Platform Alliances von Chartered. „Wir nutzten die Standardzellen-Bibliothek von Infineon und konnten zeigen, dass ein hochpräziser LFD-Designflow für unseren 65-nm-Prozess signifikante Vorteile für unsere Kunden bietet.“ Das Fazit des Vortrags ist, dass DRC-Prüfung al eine deutliche Verbesserung der Ausbeute erzielt werden kann, wenn man eine kleine Anzahl der kritischen Bereichelein nicht ausreicht, damit kritische Stellen nicht zu einer Reduzierung der Ausbeute bei Designs mit 65 nm oder noch kleineren Strukturen führen können. Die Forscher fanden heraus, dass die meisten „Hot Spots“ einer geringen Anzahl von Zellen zugeordnet werden können. Das besagt, das - gewichtet im Hinblick auf ihren Einfluss auf die Ausbeute -  im Layout entsprechend modifiziert. „Wir begrüßen es sehr, dass Infineon und Chartered eine Vorreiterrolle bei der Validierung der LFD-Methodik übernehmen“, sagte Joe Sawicki, Vice President und General Manager der Design to Silicon Division von Mentor Graphics. „Wir sind davon überzeugt, dass diese Ergebnisse auch für andere Firmen, die ständig mit der Evaluierung von unterschiedlichen DFM-Lösungen befasst sind und an der Implementierung eines LFD-basierten Designflows arbeiten, von großem Interesse sind.“ Mentor Graphics und Design Architect sind eingetragene Warenzeichen und ADiT sowie ADVance MS sind Warenzeichen der Mentor Graphics Corporation. Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.

Über Mentor Graphics Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von über 800 Mio. US-Dollar und beschäftigt weltweit ca. 4.250 Mitarbeiter. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777; Die Adresse der Niederlassung im Silicon Valley lautet: 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Kalifornien 95131-2314. Weitere Informationen unter: http://www.mentor.com