IBM und Mentor Graphics entwickeln computergestützte Lithografielösung für die 22-nm-Technologie

ARMONK, N.Y. und WILSONVILLE, Oregon/USA, 17. September 2008 – IBM und Mentor Graphics kündigen ein Abkommen zur gemeinsamen Entwicklung und Distribution von computergestützten Lithografiesoftwarelösungen der nächsten Generation an. Die neuen Lösungen werden die Abbildungsfähigkeiten von Lithografiesystemen verbessern, die zur Fertigung von integrierten Schaltungen am 22-nm-Knoten und darüber hinaus verwendet werden. Die Vereinbarung ist Teil von IBMs „Computation Scaling Initiative“ zur Entwicklung des ersten computergestützten Halbleiterfertigungsprozesses für die 22-nm-Technologie. „Die Industrie steht mit 22 nm vor einer großen Herausforderung, bei der traditionelle Skalierungsansätze aufgrund der physikalischen Gesetzte nicht mehr länger praktikabel sind“, sagte Gary Patton, Vice-President von IBMs Microelectronics Division. „Stattdessen müssen wir computergestützte Skalierungslösungen betrachten, um zum nächsten Prozessknoten zu gelangen. Wir freuen uns sehr über diese Partnerschaft, die es uns erlaubt, IBMs überlegene Lithographieprozesstechnologie, Algorithmen und Hochleistungs-Computinglösungen mittels der bewährten, marktführenden Calibre nmPlatform anzubieten. In den kommenden Wochen wird IBM weitere Details seiner Pläne und Strategien bezüglich eines umfassenden Ökosystems zur computergestützten Skalierung (CS) bekannt geben, mit dem wir unsere CS-Strategie für 22 nm unterstützten.“ „Die neue Partnerschaft setzt unsere erfolgreiche Beziehung fort. Diese besteht, seit IBM und Mentor erstmals bei modellbasierten Optical-Proximity-Correction- (OPC) Lösungen für den 130-nm-Knoten kooperiert haben. Das Abkommen erweitert die Zusammenarbeit rund um den Cell-Broadband-Engine-Prozessor“, sagte Joseph Sawicki, Vice-President und General-Manager der Design-to-Silicon-Division von Mentor Graphics. „Wir gehen über die üblichen EDA-Kunden-Lieferanten-Beziehungen hinaus in Richtung einer echten gemeinsamen Forschung und Entwicklung, die den Anwendern große Vorteile bringen werden. Das beinhaltet nicht nur die Fähigkeit, entscheidende Leistungsmerkmale des 22-nm-Knotens erfolgreich abzubilden, sondern auch innovative Lösungen zum Managen der Turnaround-Time und der Berechnungskosten, die für den Gesamterfolg unserer Kunden immens wichtig sind.“ Die gemeinsame Entwicklungsarbeit findet bei Mentor in San Jose, am IBM-Standort in East Fishkill sowie bei IBM Research in Yorktown statt. IBM und Mentor Graphics werden spezifische Methoden und Software entwickeln, die fortschrittliche mathematische Techniken und Softwarearchitekturen nutzen, um verbesserte computergestützte Lithografiefähigkeiten für die 22-nm-Fertigung zu erreichen. Computergestützte Lithografie Heute werden die meisten integrierten Schaltungen in 45-nm- oder größeren Technologien gefertigt. Die Herstellung von 22-nm-Schaltungen ist ein anspruchsvoller Meilenstein bei der Entwicklung kleinerer, leistungsfähigerer, energieeffizienter Mikroprozessoren und System-on-Chip- (SoC) ICs, die in fortschrittlichen Computer-Servern, Laptops, Mobiltelefonen und Konsumgüterelektronik zum Einsatz kommen. Derzeitige Lithografiemethoden – der Prozess zum Entwurf von Fotomasken zur Abbildung der Schaltungsmuster auf Silizium-Wafern in Massenstückzahlen – sind wegen der grundlegenden physikalischen Einschränkungen für kritische Layer bei 22 nm nicht ausreichend. Computergestützte Lithografie ist eine Methode, um die Beschränkungen des Fertigungsprozesses zu überwinden. Dabei werden auf jeder IC-Schicht mit Hilfe von berechnungsintensiven numerischen Methoden die Form der Lithografiemasken und die Charakteristiken der Beleuchtungsquelle derart modifiziert, dass das Ergebnis nach der Belichtung näher an der beabsichtigten Form liegt. Eine gängige computergestützte Lithografietechnik ist Optical-Proximity-Correction (OPC), ein wesentliches Element von IBMs „Computational Scaling Initiative“. Über IBM Weitere Informationen über die Halbleiterprodukte und Dienstleistungen von IBM gibt es unter: www.ibm.com/technology.

Über Mentor Graphics Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von über 850 Mio. US-Dollar und beschäftigt weltweit ca. 4.200 Mitarbeiter. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777; Die Adresse der Niederlassung im Silicon Valley lautet: 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Kalifornien 95131-2314. Weitere Informationen unter: www.mentor.com. Mentor Graphics und Calibre sind eingetragene Warenzeichen der Mentor Graphics Corporation. Cell Broadband Engine und Cell/B.E. sind Warenzeichen der Sony Computer Entertainment, Inc. in den USA sowie anderen Ländern und wird daher unter Lizenz genutzt. Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.