Von Mentor Graphics Consulting entwickelter Calibre-Flow steigert Silizium-Ausbeute bei Globalfoundries
WILSONVILLE, Oregon/USA, 12. März 2012 – Mentor Graphics gibt bekannt, dass Mentor Consulting Division (MCD) mit Hilfe der Calibre-Software einen neuen Flow für Globalfoundries entwickelt hat, mit dem sich die Designausbeute erheblich verbessern lässt. In einem Experiment, das von Globalfoundries und Mentor durchgeführt wurde, konnte auf dem Testchip eine signifikante Steigerung der Ausbeute erreicht werden, nachdem der integrierte Flow automatisch Design-for-Manufacturing- (DFM) Verbesserungen gemacht hat. Dies geschah unter Verwendung mehrerer Calibre-Tools zur Analyse und direkten Modifikation der GDS-Layout-Datenbank. Der Flow steht Globalfoundries-Kunden für 45/40- und 32/28-nm-Prozesse zur Verfügung. Die Laufzeit ist selbst bei kompletten Designs kurz, die Design-Performance-Spezifikationen werden eingehalten und DRC Fehler werden vermieden, da während des Modifikationsprozesses alle Änderungen sofort überprüft werden.

„Wir sind sehr zufrieden mit der Arbeit, die MCD bei der Entwicklung eines kundenspezifischen Flows für Globalfoundries geleistet hat. Dieser Flow hilft uns, bei den Designs unserer Kunden schnell und einfach DFM-Verbesserungen durchzuführen, die die Ausbeute steigern, ohne die Performance zu beeinträchtigen oder DRC-Fehler zu erzeugen“, sagte Luigi Capodieci, Direktor DFM/CAD und R&D-Fellow bei Globalfoundries. „Uns gefällt auch, dass der Flow sehr modular und skalierbar ist. Dadurch können wir ihn einfach auf neue Prozesse übertragen und ihn erweitern, um zusätzliche DFM-Probleme zu lösen, wenn wir neue Design abhänge Ausbeuteprobleme entdecken.“

Der neue Globalfoundries-Flow ist das Ergebnis eines Engagements innerhalb des Yield-Enhancement-Services- (YES) Angebots von MCD. Die Ingenieure von Mentor arbeiten direkt mit den Globalfoundries-Ingenieuren zusammen, um deren Anforderungen genau zu verstehen und eine Lösung zu verwirklichen, die alle Vorteile der integrierten Calibre-Plattform nutzt. Der Flow führt eine schnelle Designdatenbankfilterung durch, um Bereiche zu identifizieren, die DFM-Verbesserungen benötigen, dann die entsprechenden Modifikationen auszuführen und sofort zu überprüfen, um sicherzustellen, dass keine DRC-Fehler oder andere Probleme entstehen. Im Flow werden Calibre nmDRC, Calibre YieldAnalyzer und Calibre YieldEnhancer verwendet, um automatisch Leitungsbahn-Verbreiterungen, Kontakt-Verdopplung und Verbesserung der via-enclosure mit Unterstützung von rechteckigen Kontakten durchzuführen. Diese Modifikationen haben die Fertigungsausbeute signifikant gesteigert. Da die Analyse sehr effizient ist und direkt auf der GDS-Datenbank abläuft, sind die Laufzeiten selbst bei komplexen Full-Chip-Designs kurz.

Validiert werden die Ergebnisse durch direkten Vergleich mit den gefertigten Bauteilen mit Mentors Test-and-Yield-Analysis-Tools, einschließlich Tessent TestKompress, Tessent Diagnosis und Tessent YieldInsight. Die beim Testen gefundenen Bauteilfehler  werden zurückverfolgt und im Layout lokalisiert. Die eigentliche Fehlerursache wird mit Hilfe physikalischer Fehleranalysen festgestellt um die Ausfälle mit Design-spezifischen Ausbeute-Limitern korrelieren zu können, die dann durch DFM Modifikationen eliminiert werden können. Die Globalfoundries-Lösung ist anwenderfreundlich und erlaubt es den Kunden, die DFM Modifikationen über eine einfache Benutzerschnittstelle auszuwählen oder zu deaktivieren. Sie lässt sich auch leicht auf neue Technologien und Prozessknoten anpassen. Zum Beispiel wurde der Flow innerhalb von wenigen Tagen von 32/28 auf 45/40 nm portiert.

„Die Aufgabe von MCD besteht vor allem darin, Kunden von Mentor dabei zu helfen, den größtmöglichen Nutzen aus unseren Technologien zu ziehen“, sagte Paul Hofstadler, Vice-President und General-Manager der weltweiten Consulting-Division von Mentor. „Unser Bestreben ist es, enge Partnerschaften mit unseren Kunden einzugehen und deren individuelle Anforderungen in einsatzfähige und skalierbare Lösungen zu übersetzen. Diese Lösungen sind so gemacht, dass unsere Kunden sie eigenständig erweitern und verbessern können, wenn sich ihre Technik weiterentwickelt. Der für Globalfoundries entwickelte Flow zur Ausbeuteverbesserung ist ein großartiges Beispiel für diese Philosophie, die in einer anspruchsvollen Produktionsumgebung verwirklicht wurde.“

Mentor und Globalfoundries werden am 14. März auf der DATE Conference in Dresden ein Seminar über Yield-Optimierung abhalten. Weitere Informationen unter: go.mentor.com/21aed

(Mentor Graphics, Mentor, Calibre, Tessent, TestKompress und YieldInsight sind eingetragene Warenzeichen der Mentor Graphics Corporation. Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.)
Über Mentor Graphics

Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von ca. 1.015 Mio. US-Dollar. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Weitere Informationen unter: www.mentor.com
 
 
 
» Siemens EDA
» Presse Informationen
» Presse-Information
Datum: 12.03.2012 14:40
Nummer: Calibre GFOUNDRIES Yield Improvement
» Kontakt
Mentor Graphics (Deutschland) GmbH
Arnulfstr. 201
80634 München
Mark Croft
Tel.: +44-1635-811425
Mobile: +44-7785-310173
mark_croft@mentor.com
www.mentor.com
» Kontakt Agentur
MEXPERTS AG
Trimburgstr. 2
81249 München
Ansprechpartner
Rolf Bach / Peter Gramenz
Tel.: +49 (0)89/ 89 73 61-0
Fax +49 (0)89/ 89 73 61-29
peter.gramenz@mexperts.de
www.mexperts.de
» Weitere Meldungen
14.11.2024 11:00
Siemens präsentiert KI-gestützte Software der nächsten Generation für das Design elektronischer Systeme

04.11.2024 15:00
Siemens und CELUS kooperieren bei KI-gestütztem Leiterplattendesign für KMUs

28.08.2024 15:00
Siemens - Digital Twin Technologie verschafft Orient Express Racing Team & K-Challenge Vorsprung beim America’s Cup

24.05.2024 11:00
Siemens vereinfacht mit Catapult AI NN die Entwicklung von KI-Beschleunigern für fortschrittliche System-on-Chip-Designs

13.03.2024 15:15
Siemens demonstriert erste Pre-Silicon-Simulationsumgebung für die Arm Cortex-A720AE für Software Defined Vehicles