10.04.2008 16:15 |
Halbierung der Entwicklungszeit bei HF-Leiterplatten durch integrierte EDA-Lösung von Mentor Graphics und Agilent |
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WILSONVILLE, Oregon und SANTA CLARA, Kalifornien, 10. April 2008 - Mentor Graphics, der Markt- und Technologieführer im Bereich Layoutsoftware für Leiterplatten (PCB), und Agilent Technologies, der Markt- und Technologieführer für HF-Designlösungen, haben eine gemeinsame Lösung entwickelt, welche ... |
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04.04.2008 13:45 |
Mentor Graphics bietet Syntheseunterstützung für Virtex-5-FXT-FPGAs von Xilinx |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 04. April 2008 - Mentor Graphics unterstützt mit seinen Syntheseprodukten Precision RTL und Precision RTL Plus ab sofort die FPGAs der Virtex-5-FXT-Plattform von Xilinx. Die neuen 65-nm-Bausteine verfügen über zwei embedded PowerPC-440-Prozessorblöcke und bieten leistungs... |
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18.02.2008 15:20 |
Mentor Graphics erzielt Durchbruch bei intelligenter Verifikation |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 18. Februar 2008 - Mentor Graphics Corporation kündigt mit Questa Multi-view Verification Components (MVC) und dem intelligenten Testbench-Automatisierungswerkzeug inFact zwei neue Lösungen an, die mit Hilfe wegweisender Technologien die Verifikation beschleunigen und die... |
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18.01.2008 11:00 |
Mentor Graphics und Calypto Design Systems bieten kundenerprobten ESL-Synthese- und Verifikations-Flow |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 18. Januar 2008 - Mentor Graphics Corporation kündigt die Verfügbarkeit eines neuen Electronic-System-Level- (ESL) Hardware-Design- und Verifikations-Flows an, der das Catapult-C-Synthesewerkzeug von Mentor mit dem Sequential-Equivalence-Checker (SLEC) von Calypto Design... |
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17.01.2008 11:00 |
Mentor Graphics startet 20. jährliches „PCB Technology Leadership Awards“-Programm |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 17. Januar 2008 – Mit der Ausschreibung für ihren 20. alljährlich stattfindenden Wettbewerb Technology Leadership Awards setzt die Mentor Graphics Corporation ihre bewährte Tradition fort, Spitzenleistung bei Leiterplattendesignern zu fördern und anzuerkennen. Von Mentor im ... |
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14.01.2008 15:45 |
Cadence und Mentor Graphics geben Verfügbarkeit der Open Verification Methodology bekannt |
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SAN JOSE, Calif., und WILSONVILLE, Oregon/USA, 14. Januar 2009 - Cadence Design Systems und Mentor Graphics geben die Verfügbarkeit der Open Verification Methodology (OVM) bekannt, die kürzlich vom Electronic Design Magazine mit dem "2007 BEST"-Award für EDA-Technologie ausgezeichnet wurde. ... |
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