Calibre LFD von Mentor Graphics - neues Produkt modelliert Prozessschwankungen schon im Designflow

[[Bitte beachten Sie auch die Dokumenten-Downloads auf der rechten Seite]] München, 06. März 2006 – Mentor Graphics Corporation kündigt mit Calibre LFD (Litho-Friendly Design) ein neues Produkt an, das ein Umdenken im Designflow bei der IC-Entwicklung bewirkt und die DFM(Design-for-Manufacturing)-Lösungen von Mentor erweitert. Calibre LFD ist das erste EDA(Electronic Design Automation)-Tool, das genutzt werden kann, um Layout-Änderungen, welche die Stabilität des Fertigungsprozesses verbessern, bereits in einem sehr frühen Stadium während der Designentwicklung vorzunehmen und somit die Robustheit der Layouts innerhalb des lithographischen Prozessfensters erheblich zu verbessern. Die Produktankündigung erfolgte während der Design, Automation und Test in Europe Konferenz – DATE 2006, die diese Woche in München stattfindet. Calibre LFD ermöglicht es Ingenieuren, ein Design zu erzeugen, dass robuster und unempfindlicher gegenüber dem lithographischen Prozessfenster ist. Dies ist schon bei 90-nm-Technologieknoten wichtig und kann bei 65-nm-Technologien entscheidend sein, da hier Veränderungen im Prozess einen großen Einfluss auf die Chipausbeute haben können. „Die Fähigkeit, Designs mit hoher Ausbeute zu liefern, ist in der Nanometer-Technologie entscheidend“, sagte Luigi Capodieci, Prinzipal Member Technical Staff bei AMD (Advanced Micro Devices). „Indem wir unseren bestehenden Designflow um Calibre LFD erweitern, können wir Layout-Abstimmungen bereits in einem sehr frühen Stadium der Designentwicklung vornehmen und die Robustheit der Layouts innerhalb des Prozessfensters erheblich verbessern.“ Foundries und Fabs stellen Designern ein LFD-Kit ähnlich wie ein DRC(Design Rule Checking)-Kit zur Verfügung. Dieses Kit enthält Energie-, Dosis- und Masken-Bias-Bedingungen, RET-Recipes, Prozessmodelle und parametrisierbare Regeln, die überprüft werden müssen, und die alle in einer gemeinsamen Ergebnisdatenbank dargestellt werden. Der Designer kann die Simulationen gleichzeitig ablaufen lassen, um zu sehen, wie das Layout innerhalb eines bestimmten Lithographieprozessfensters aussehen wird. Das Ziel ist es, ein Design zu realisieren, das „LFD Clean“ und „DRC Clean“ ist. Calibre LFD bietet die Berechnung des DVI (Design Variability Index) als eine Methode, um die Toleranz des Designs gegenüber Veränderungen im Prozess zu messen. Ein niedriger DVI-Wert steht dabei für ein widerstandsfähigeres Design. Der DVI wird verwendet, um verschiedene Layout-Implementierungen zu vergleichen und hilft Designern, die Version mit der geringsten Empfindlichkeit gegenüber Änderungen auszuwählen. Calibre LFD basiert auf der bewährten Design-to-Silicon-Plattform Calibre und kann mit Hilfe von Calibre Interactive leicht in gängige Layout-Umgebungen integriert werden. Calibre LFD lässt sich in einen Designflow wie ein iterativer Designschritt einbinden und nutzt den gleichen Layout-Editor, der bereits für das ursprüngliche Design verwendet wurde. Designer können einen Layout-Viewer/Editor und eine Result-Viewing-Umgebung wie Calibre RVE oder Calibre DESIGNrev zum Prüfen der Testsergebnisse und Variabilitätsdatenbank einsetzen. Das Erfassen von Prozessveränderungen zur Verbesserung der Layout-Robustheit ist ein wichtiger neuer Schritt in der DFM-Methodik. Mit Calibre LFD wurde die Basis geschaffen, um den Einschränkungen der Chipausbeute, die mit jedem neuen Prozessknoten auftreten, zu begegnen. „In der Vergangenheit lag es in der Verantwortung der Foundry, die Druckfähigkeit zu gewährleisten“, sagte Joe Sawicki, Vice President und General Manager des Bereichs Design-to-Silicon von Mentor Graphics. „Mit Calibre LFD können Designer zum ersten Mal beeinflussen, wie gut die Chipsausbeute durch die Veränderungen im Prozessfenster wird.“ Verfügbarkeit Calibre LFD ist sofort erhältlich. Weitere Informationen gibt es unter http://www.mentor.com Mentor Graphics und Calibre sind eingetragene Warenzeichen und Calibre LFD, Calibre Interactive, Calibre RVE und Calibre DESIGNrev sind Warenzeichen der Mentor Graphics Corporation. Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.

Über Mentor Graphics Corporation Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Software- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte in den zurückliegenden zwölf Monaten einen Gesamtumsatz von über 700 Mio. US-Dollar und beschäftigt weltweit ca. 4.000 Mitarbeiter. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777; Die Adresse der Niederlassung im Silicon Valley lautet: 1001 Ridder Park Drive, San Jose, Kalifornien 95131-2314. Weitere Informationen unter: http://www.mentor.com